반도체 플라즈마 이온 주입공정에서 직류 펄스 전압, 전류 감지를 통한 실시간 도즈 모니터링 시스템 개발

  • 오세진 (한양대학교 공과대학 전기공학과) ;
  • 김유신 (한양대학교 공과대학 전기공학과) ;
  • 이재원 (한양대학교 공과대학 전기공학과) ;
  • 정진욱 (한양대학교 공과대학 전기공학과)
  • Published : 2011.02.09

Abstract

플라즈마를 이용한 반도체 이온 주입 공정(Plasma Immersion Ion Implantation)에서 이온 도즈량(DOSE) 측정은 공정 신뢰성 및 재현성 확보를 위해 중요하다. 본 연구에서는 도즈량 측정을 위해 패러데이컵과 같이 측정 장비를 챔버에 직접 삽입 시키지 않고 챔버 외부에서 이온 주입을 위한 바이어스 전극의 직류 펄스 전압 및 전류 신호 측정을 통해 실시간으로 도즈량을 추출하는 방법을 개발하였다. 펄스 전압 신호에서 전압 신호 상승, 하강 시간에 의해 발생된 변위 전류와 플라즈마 발생 소스의 RF잡음등을 제거한 후 이온 포격으로 인한 2차 전자 방출 계수를 고려하여 펄스 동작 기간 추출을 통해 실시간으로 측정하는 알고리즘을 구현하였다.

Keywords