Formation of uniform etch fits on Aluminum film for high performance metal capacitor

  • 김태유 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 김남정 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 최우성 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 서수정 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2011.05.19

Abstract

고성능 금속 커패시터 개발을 목적으로 aluminum film에 균일한 etch fit를 형성하는 연구를 진행하였다. Etch mask로 PI를 사용하여 Aluminum film에 균일한 형태의 etch fit를 형성하였다. 균일하게 에칭 된 aluminum film들은 capacitance를 측정하여 에칭 조건에 따른 capacitance 변화를 확인하였다.

Keywords