Properties of TiN Thin Films deposited on Aluminum and Stainless substrates by DC Reactive Magnetron Sputtering with Electromagnetic Field System

고밀도 플라즈마 반응성 스퍼터링 법으로 알루미늄 기판과 스테인리스 기판에 증착된 2차 연료 전지용 금속 분리판을 위한 TiN 박막의 특성 연구

  • Published : 2011.05.19

Abstract

2차 연료 전지용 금속 분리판 중 스테인리스 스틸은 많은 연구가 진행 되어 왔지만, 알루미늄은 거의 연구가 진행되지 않고 있다. 따라서 이번 연구는 반응성 DC 마그네트론 스퍼터링법으로 스테인리스 와 알루미늄 기판에 TiN 박막을 증착한 후, 기판의 종류에 따른 TiN 박막의 물성을 비교 검토하였다.

Keywords