유도결합 플라즈마가 결합된 마그네트론 스퍼터링에 의해 합성된 미세결정질 실리콘 박막의 미세구조에 미치는 수소의 영향

The effect of hydrogen on microstructure of nc-Si:H thin films deposited by ICP-assisted magnetron sputtering

  • 신경식 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최인식 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최윤석 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 한전건 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소)
  • 발행 : 2012.05.31

초록

유도결합 플라즈마(ICP)가 결합된 마그네트론 스퍼터링법으로 수소와 알곤의 혼합비율에 따라 기판 가열 없이 유리기판 위에 실리콘 박막을 증착하였다. 수소 유량에 따른 실리콘 박막의 미세구조 변화는 XRD, Raman spectroscopy, FT-IR 등의 분석을 통해 확인하였다. 수소 유량이 증가할수록 박막의 증착률은 감소하였으며, 수소 혼합비율이 60% 이상일 때 비정질 실리콘이 미세결정질 실리콘으로 전이되는 것을 확인하였다.

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