Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2015.05a
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- Pages.84-84
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- 2015
이중 주파수를 이용한 펄스 유도 결합 플라즈마 특성 연구
- Kim, Gi-Hyeon (Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University) ;
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Kim, Tae-Hyeong
(Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University)
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- Lee, Seung-Min (Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University) ;
- Lee, Cheol-Hui (Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University) ;
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Kim, Gyeong-Nam
(Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University)
;
- Bae, Jeong-Un (Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University) ;
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Yeom, Geun-Yeong
(Dept. of Advanced Materials, Sungkyunkwan University)
- 발행 : 2015.05.07
초록
플라즈마를 이용한 반도체 미세 공정에서 플라즈마 밀도, 균일성 등과 같은 플라즈마 특성을 조절하는 것은 차세대 공정 장비 개발에 있어 매우 중요한 요소이다. 본 연구에서는 이러한 플라즈마 특성을 효율적으로 제어하기 위해 서로 다른 주파수를 사용하는 2개의 안테나에 pulse 신호를 적용하여 각 안테나에 인가되는 펄스 신호에 따른 플라즈마의 특성을 알아보았다.
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