공업화학 (Applied Chemistry for Engineering)
- 제1권1호
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- Pages.11-22
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- 1990
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- 1225-0112(pISSN)
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- 2288-4505(eISSN)
다이아몬드 박막기술
Diamond Thin Film Technology
- 이지화 (서울대학교 공과대학 공업화학과)
- Lee, Jiwha (Department of Chemical Technology, College of Engineering, Seoul National Unviersity)
- 투고 : 1990.09.24
- 발행 : 1990.10.31
초록
다이아몬드가 준안정상태로 존재하는 조건(저압 및 저온) 하에서 화학증착시키는 방법이 80년대에 개발되어 새로운 다이아몬드 코팅기술로 등장하고 있다. 여기서는 여러가지 CVD 방법을 장단점과 함께 소개하였다. 다이아몬드 박막의 성장에 관련된 반응기구와 수소원자의 역할을 논하였으며, 또 장래의 연구분야와 응용을 전망하였다.
Chemical vapor deposition of diamond under metastable conditions(low pressure and temperature) developed in the eighties is now an emerging technology for diamond coatings. In this article, various CVD methods are described with their advantages and limitations. The reaction mechanisms and the possible role of H atoms involved in the diamond film growth process are briefly reviewed. Also mentioned are the future research area and the prospect of applications.
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