첨단산업기술로서의 표면처리기술 개발 동향 및 기술개발 전략(II)-CVD 기술의 개발 현황 및 전망

  • 권식철 (한국기계연구소 표면공학실) ;
  • 이상로 (한국기계연구소 표면공학실) ;
  • 이건환 (한국기계연구소 표면공학실) ;
  • 백운승 (한국기계연구소 표면공학실)
  • Published : 1990.01.31

Abstract

표면처리는 물리.화학적 방법과 전기화학적 방법으로 대별하여 이루어질 수 있으나, 본고에서는 지난호에 이어 화학적 방법에 대하여 기술코져 한다.

Keywords