Characterization of Diamond-like Carbon Films on Si-Wafer Deposited by DC Plasma CVD.

  • Ju Tack Han (Department of Chemistry College of Natural Sciences Kyungpook National University) ;
  • Jong-Gi Jee (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town) ;
  • Eun-joo Shin (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town) ;
  • Dongho Kim (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town)
  • Published : 1994.12.01

Abstract

메탄과 수소 혼합가스로 직류 플라즈마 화학 증착법을 이용하여 방전전류 반응압력 메탄농도 및 피착체의 온도를 변화시키면서 다이아몬드 유산탄소 박막(DLCF)을 Si(111)-웨이퍼 위에 합성하였다. 주 사전자 현미경(SEM)과 레이져 Raman 스펙트로포토메터로 확인된 양질의 DLCF를 얻은 조건은 방전전 류 반응 압력, 메탄농도 그리고 피착체의 온도가 각각 480mA, 32 Torr, 1.0 vol% 및 85$0^{\circ}C$ 였다. 이 DLCF는 대부분 sp3 탄소결합으로 된 구형의 알갱이들로 구성되어 있고 그굴절률은 2.2로 천연다이아몬 드와 비슷한 값을 가지고 있다. 또한 DLCF 성장에서 수소피복이 매우 중요한 것으로 밝혀졌다.

Keywords