Journal of Sensor Science and Technology (센서학회지)
- Volume 5 Issue 6
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- Pages.68-73
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- 1996
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- 1225-5475(pISSN)
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- 2093-7563(eISSN)
Substrate effects of ZnO films deposited by rf magnetron sputtering
고주파 마그네트론 스펏터링법으로 제조한 ZnO박막의 기판에 따른 효과
- Kim, Y.J. (Dept. of Electronics, Kyungpook National University) ;
- Kwon, O.J. (Electronics and Telecommunications Research Institute) ;
- Yu, S.D. (Dept. of Electronics, Kyungpook National University) ;
- Kim, K.W. (Dept. of Electronics, Kyungpook National University)
- Published : 1996.11.30
Abstract
ZnO thin films were prepared on glass and (012) sapphire substrates by rf magnetron sputtering. Polycrysralline ZnO films with a (002) orientation were obtained on glass substrates. (110) ZnO films were epitaxially grown on the (012) sapphire substrates. Surface acoustic wave properties were also measured for propagating along the c axis of ZnO film on the glass and sapphire substrates. The phase velocities (
고주파 마그네트론 스펏터링법을 이용하여 유리 및 (012)면인 사파이어 기판위에 ZnO박막을 제조하였다. 유리기판위에는 (002)면을 갖는 ZnO 다결정박막이 제조되었으며, (012)면인 사파이어 기판위에는 (110)면인 ZnO에 피택셜 박막이 제조되었다. 유리 및 사파이어 기판위에 제조된 ZnO박막의 표면탄성파 특성을 조사하였다. 유리 및 사파이어 기판에 대한 중심주파수에서의 전파속도는 각각 2680 m/sec 및 5980 m/sec였으며, 기본모드에서 구한 결합계수는 각각 0.98 % 및 1.44 %였다.
Keywords