Adhesion and Agglomeration Phenomena of Pt Film of Resistance Heat Source

저항열원체 Pt 박막의 밀착력과 응집화 현상

  • 이재석 (한양대학교 금속공학과) ;
  • 박효덕 (전자부품종합기술연구소 센서기기 연구팀) ;
  • 신상모 (전자부품종합기술연구소 센서기기 연구팀) ;
  • 박종완 (한양대학교 금속공학과)
  • Published : 1996.02.01

Abstract

각종 전자부품에 이용되는 백금막의 밀착력과 응집화 현상에 대해 연구하였다. 온도저항계수(TCR)의 열화 없이 밀착력을 향상 시키기 위해서 AI, Si의 산화물을 adhesion promoting layer로 이용한 결과 매우 우수한 밀착력과 TCR을 보였다. 질소분위기 600-90$0^{\circ}C$의 온도범위에서 행한 열처리를 통해 응집화현상을 관찰한 결과 응집화는 기판거칠기에 따라 다른 양상을 보였다. Si3N4등의 기판거칠기가 작은 adhesion promoting layer를 이용한 시편의 경우 고온인 90$0^{\circ}C$에서 응집화 현상이 발생되었다. 표면거칠기가 큰 AI-Si 산화물을 adhesion promoting layer로 이용한 시편의 경우 비교적 저온인 $600^{\circ}C$에서 응집화 현상이 발생했으며 80$0^{\circ}C$이상의 열처리의 경우 중앙응집체와 응집체고갈지역이 형성되는 현상을 나타내었다.

Keywords

References

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