한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

  • 제6권6호
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  • Pages.636-643
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  • 1996
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  • 1225-0562(pISSN)
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  • 2287-7258(eISSN)
한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

RF 스퍼터링방법에 의한 제2고조파소자의 광학박막 제작

Optical Coating for SHG device by RF Sputtering Method

  • 김용훈 (삼성종합기술원 신소재응용연구소) ;
  • 이성국 (삼성종합기술원 신소재응용연구소) ;
  • 마동준 (삼성종합기술원 신소재응용연구소) ;
  • 한재용 (삼성종합기술원 신소재응용연구소) ;
  • 박성수 (삼성종합기술원 신소재응용연구소) ;
  • 이상학 (삼성종합기술원 신소재응용연구소)
  • 발행 : 1996.06.01
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초록

공진기형 제 2고조파소자(SHG)는 레이저 빔의 에너지 밀도가 높아 고내구성 박막이 필요하다. 본 연구에서는 광학박막 재료로 고융점 산화물인 ZrO2, TiO2, SiO2를 사용하였다. 반응성 스퍼터링 방법으로 제작한 ZrO2, TiO2, SiO2 박막을 XRD, SAM을 사용하여 분석하였고, 박막의 광학적 특성을 평가하였다. SHG 소자의 KTP 및 Nd:YAG 결정의 반사방지막(A/R 코팅)구성은 ZrO2와 SiO2를 사용하여 컴퓨터로 계산하였는데 기본파인 1064nm와 제 2고조파인 532nm에서 각각 0.1%, 0.5%이하의 반사율을 갖도록 하였다. 또한 고반사막(H/R 코팅)의 경우 1064nm에서 99.9%의 반사율을 갖도록 TiO2와 SiO2로 디자인하였다. 제작한 광학박막의 광학적 특성, 레이저 내구성(laser damage threshold), 온습도 안정성 실험 등을 통해 광학박막을 평가하였다.

키워드

참고문헌

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  4. 광학가공 및 응용
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  6. Thin film and their applications in optoelectronics
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