Abstract
The high-$T_c$ superconducting phase, $YBa_2Cu_3O_x$, was deposited on the single crystal MgO substrate, using a liquid aerosol feed method in a plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) reactor. The effect of the plasma distribution depending on the design of a reactor was studied by the analysis of the microstructures of thin films. The particles landed were frequently observed on the films and the two causes that were responsible for the particle deposition were explained. The particles were deposited by the unstable and non-uniform plasma and the low evaporation rate of the precursors. Also, the thin film deposition rate decreased significantly as the distance between the evaporating location and the substrate increased.
$YBa_2Cu_3O_x$ 고온 초전도체 상을 MgO 단결정위에 증착시키기 위하여 액상의 에어로 졸 입자를 저온 플라즈마의 화학증기 증착로안에 유입하였다. 플라즈마의 분포를 조절하기 위한 반응로의 설계에 따라 초전도체상의 미세구조가 변화하는 양상을 관찰하였으며, 이때 증착 기판 위에서 관찰되는 입자들의 생성원인에 대하여 고찰하였다. 입자생성의 주된 원인으로는 불안정한 플라즈마의 분포와 출발원료의 낮은 기화속도에 기인하는 것으로 나타났다. 또한 증착속도는 출발원료가 기화되는 곳으로부터 멀어질수록 급격히 감소하는 것으로 밝혀졌다.