To enhance the resolution and the depth of focus of the patterns whose size reaches the optical resolution limits, the various imaging methods are being tried. Generally in the linear polarization illumination methods, the contrast gap exists between TE mode TM mode according to the pattern direction. However, through the previous research, the elliptical polarization illumination(EPI) method was proposed to overcome this contrast gap. In this research, we investigated the optimal polarization condition to be able to enhance the depth of focus(DOF) for the optional mask which is containing the opposite direction patterns by applying the various polarization conditions including EPI. The DOF according to each polarization condition was obtained by ED-Tree(Exposure-Defocus Tree) for the given exposure dose and CD error boundaries. As the result, we can ascertain th effect of EPI for the enhancement of DOF in some condition of optical system.
광학적 분해능의 한계에 도달한 크기를 갖는 패턴의 분해능과 초점심도를 향상시키기 위해서 여러 가지 결상 방법들이 시도되고 있다. 일반적으로 선형 편광에서는 패턴 방향에 따라 TM mode 와 TE mode 사이에 contrast gap이 존재한다. 하지만 기존의 연구에서 이러한 conteast gap을 해결해 줄 수 있는 방법으로 타원편광 조명법이 제안하였다. 본 연구에서는 서로 방향이 수직인 패턴이 함께 있는 임의의 마스크에 타원편광을 포함한 여러 편광 조건을 적\ulcorner해 봄으로써, 초점심도를 향상시킬 수 있는 편광 조명 상태를 찾았보았다. 각 편광 조건에 따른 초점심도는, 허용 가능한 노광량(Exposure Dose0과 Critical Dimension(CD)의 오차 범위에 대한 ED-Tree(Exposure-Defocus Tree)를 통해 구하였다. 그 결과, 광학계의 조건에 따라 타원편광 조명이 초점심도를 향상시키는 효과가 있음을 알 수 있었다.
