Effects of Addition of Al foil for Electrolytic Capacitors I. Shape Parameters of Etch Tunnel and Capacitance

전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 I. 에치터널의 형상 및 정전 용량

  • Kim, Seong-Gap (School of Metallurgical and Materials Engineering, Kookmin University) ;
  • Yu, In-Jong (Agency for Defense Development) ;
  • Jang, Jae-Myeong (School of Metallurgical and Materials Engineering, Kookmin University) ;
  • O, Han-Jun (Dept of Materials Engineering, Hanseo University) ;
  • Ji, Chung-Su (School of Metallurgical and Materials Engineering, Kookmin University)
  • 김성갑 (국민대학교 금속재료공학부) ;
  • 유인종 (국방과학연구소) ;
  • 장재명 (국민대학고 금속재료공학부) ;
  • 오한준 (한서대학교 재료공학과) ;
  • 지충수 (국민대학교 금속재료공학부)
  • Published : 2000.05.01

Abstract

In order to investigate the effects of addition of 1M sulfuric acid to the etching solution or 1M hydrochloric acid on the etching behavior of aluminum foil for electrolytic capacitors, the changes in the density of etch pit, the length and diameter of etch tunnels and the capacitance were analyzed using SEM, TEM, LCR meter etc. Sulfate ion as a corrosion inhibitor was contributed to the increase of the surface area comparing with chloride ion. By adding sul-furic acid the density of etch pit and the length of etched tunnel increased and the diameter of the tunnel decreased, resulting in the increase of capacitance. It was also shown that the capacitance decreased when the current density was below $0.9A/\textrm{cm}^2$, while remarkably increased in the other case.

전해콘텐서용 알루미늄박의 직류에칭에서 1M 염산욕에 부식억제제로 1M 황산을 첨가했을 때의 영향을 조사하기 위하여 에치 피트의 밀도, 에치 터널의 길이와 직경, 정전 용량 등의 변화를 분석하였다. 황산이온은 부식억제제로서 염소이온보다 시료의 표면에서 에치 피트의 밀도를 증가시키며 에치 터널의 직경은 감소하나 길이를 증가시킴으로써 전체적으로 표면적이 커지고 또한 정전 용량 값이 증가하였다. 황산이온을 첨가하였을 경우 전류 밀도가 $0.9A/\textrm{cm}^2$ 보다 낮은 경우에는 정전 용량 값이 작지만 그 이상에서는 정전용량이 현저하게 증가하였다.

Keywords

References

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