Journal of the Korean Ceramic Society (한국세라믹학회지)

The Korean Ceramic Society (한국세라믹학회)
권호 표지

Room Temperature Deposition and Heat Treatment Behavior of ATO Thin Films by Ion Beam Sputtering

이온빔 스퍼터링에 의한 ATO 박막의 실온 증착 및 열처리에 따른 특성변화

  • 구창영 (영남대학교 재료금속공학부) ;
  • 김경중 (한국표준과학연구소 표면분석그룹) ;
  • 김광호 (부산대학교 무기재료공학과) ;
  • 이희영 (영남대학교 재료금속공학부)
  • Published : 2000.11.01
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Abstract

산화분위기에서의 반응성 이온빔 스퍼터링법으로 Sn과 Sb 금속 타겟을 사용하여 실온에서 ATO 박막을 증착하였다. Sb 첨가량, 박막의 두께 및 열처리가 ATO 박막의 전기적 특성과 광학적 특성에 미치는 효과를 연구하고자 하였다. 제조된 ATO 박막의 두께는 약 1500$\AA$과 1000$\AA$으로 조절하였으며, Sb 농도는 10.8wt% 또는 14.9wt%임이 XPS 분석에 의하여 확인되었다. 증착한 박막의 열처리는 40$0^{\circ}C$~$600^{\circ}C$의 온도범위에서 산소 또는 forming gas(10% H$_2$-90% Ar) 분위기에서 30분간 수행하였다. 이렇게 제조된 ATO 박막은 Sb의 첨가량, 두께 및 열처리 조건에 따라 다양한 전기 비저항 값과 가시광선 대역에서의 광투과도를 나타내었다.

Keywords

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