이온빔 보조 증착에 의한 TiN 박막의 특성

Characteristics of TiN Films by ion Beam Assisted Deposition

  • 김상현 (성균관대학교 물리학과) ;
  • 김대현 (동남보건대학교 안경광학과)
  • 투고 : 2004.02.28
  • 발행 : 2004.04.24

초록

본 연구에서는 이온빔 증착방법을 사용하여 스테인레스 스틸 기판 위에 TiN 박막을 성장하였다. $10^{-5}$ Torr의 질소 분위기에서 아르곤 가스를 보조 이온빔으로 사용하여 TiN 박막을 성장하였다. TiN 박막의 화학 조성, 색상, 밀착력 등을 En의(원자당 이용에너지) 변화에 따라서 측정하였다. En이 증가 할 때 질소와 Ti의 비율은 선형적으로 변화 하였고, 높은 En의 경우에는 질소와 Ti의 비율은 1.2를 가지며 포화되었다. 밝은 금색은 En이 어떤 임계값(Ecn)에 도달 하였을 때 얻어졌다. 이때의 질소와 Ti의 비율은 0.9 이다.

In this research, TiN films has been grown to the stainless steel substrate by ion beam assisted deposition. TiN film was grown to the nitrogen atmosphere of around $10^{-15}$ Torr with Arion bombardment. The chemical composition, color and adhesion of TiN films were examined as a variation of En(ion energy per atom). The N/Ti ratio increased linearly as the increase of En and saturated around 1.2 at high En. As a results, the bright golden color was obtained when En reached a certain value of Ecn. As a results, the N/Ti ratio is about 0.9.

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