• 제목/요약/키워드: AMLCD

검색결과 103건 처리시간 0.021초

SLS 공정을 이용한 p-type poly-Si TFT 제작에 관한 연구 (A Study on the Fabrication of p-type poly-Si Thin Film Transistor (TFT) Using Sequential Lateral Solidification(SLS))

  • 이윤재;박정호;김동환
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
    • /
    • 제51권6호
    • /
    • pp.229-235
    • /
    • 2002
  • This paper presents the fabrication of polycrystalline thin film transistor(TFT) using sequential lateral solidification(SLS) of amorphous silicon. The fabricated SLS TFT showed high Performance suitable for active matrix liquid crystal display(AMLCD). The SLS process involves (1) a complete melting of selected area via irradiation through a patterned mask, and (2) a precisely controlled pulse translation of the sample with respect to the mask over a distance shorter than the super lateral growth(SLG) distance so that lateral growth extended over a number of iterative steps. The SLS experiment was performed with 550$\AA$ a-Si using 308nm XeCl laser having $2\mu\textrm{m}$ width. Irradiated laser energy density is 310mJ/$\textrm{cm}^2$ and pulse duration time was 25ns. The translation distance was 0.6$\mu$m/pulse, 0.8$\mu$m/pulse respectively. As a result, a directly solidified grain was obtained. Thin film transistors (TFTs) were fabricated on the poly-Si film made by SLS process. The characteristics of fabricated SLS p -type poly-Si TFT device with 2$\mu\textrm{m}$ channel width and 2$\mu\textrm{m}$ channel length showed the mobility of 115.5$\textrm{cm}^2$/V.s, the threshold voltage of -1.78V, subthreshold slope of 0.29V/dec, $I_{off}$ current of 7$\times$10$^{-l4}$A at $V_{DS}$ =-0.1V and $I_{on}$ / $I_{off}$ ratio of 2.4$\times$10$^{7}$ at $V_{DS}$ =-0.1V. As a result, SLS TFT showed superior characteristics to conventional poly-Si TFTs with identical geometry.y.y.y.

액정표시장치 백라이트용 집광필름의 광학특성 분석을 위한 시뮬레이션 기법 연구 (Optical Simulation Study on the Performances of Collimating Films for LCD Backlight Applications)

  • 박지희;이정호;정진하;남기봉;고재현;김중현
    • 한국광학회지
    • /
    • 제18권6호
    • /
    • pp.432-440
    • /
    • 2007
  • LCD 백라이트에 사용되는 집광필름의 광학적 성능을 예측하는 효율적인 방법으로 광선추적기법이 적용된 광학 시뮬레이션이 많이 사용되고 있다. 집광필름의 광특성을 정확히 예측하기 위해서는 시뮬레이션에 영향을 미치는 조건들을 세심하게 설정하여야 한다. 본 연구에서는 가장 대표적인 집광필름인 프리즘필름의 시야각 특성 및 휘도상승률에 중요한 영향을 미치는 시뮬레이션 조건을 분석하기 위해 반사필름, 가상의 평면광원, 프리즘필름으로 구성된 간단한 BLU 모델을 구성한 후 다양한 조건 하에서 체계적인 시뮬레이션을 수행하였다. 그 결과 (1) 집광필름의 구조 및 재질 변화에 따른 광학적 성능, 특히 휘도상승률의 상대적 변화는 위에서 기술한 간단한 모델로도 충분히 예측할 수 있음을 확인하였고, (2) 집광필름의 시야각 특성을 정확히 예측하기 위해서는 반사필름의 반사성격 및 집광필름에 입사되는 빛의 분포를 시뮬레이션에 정확히 반영해야만 함을 확인할 수 있었다. 확산판, 확산필름 및 프리즘필름이 적층된 직하형 BLU에서 얻어진 실험결과와 시뮬레이션 결과를 비교 분석한 결과, 상기의 시뮬레이션 모델에 반사필름이 보이는 양방향반사분포함수를 적용하고 확산필름 위의 출광분포를 광원으로 이용할 경우 실험에서 얻어진 프리즘필름 위의 출광분포를 정확히 재현할 수 있음을 확인하였다.

엣지형 LED 백라이트의 균일도 향상을 위한 도광판의 광구조 최적화 (Optimization of Optical Structure of Lightguide Panel for Uniformity Improvement of Edge-lit Backlight)

  • 이정호;남기봉;고재현;김중현
    • 한국광학회지
    • /
    • 제21권2호
    • /
    • pp.61-68
    • /
    • 2010
  • 최근 LED TV로 각광받고 있는 대형 LCD TV용 LED(Light Emitting Diode, 고체발광다이오드) 백라이트에 사용되는 도광판의 광구조를 최적화하여 LED에 의해 발생하는 휘점을 제거하고 조도균일도를 향상시키기 위한 시뮬레이션 연구를 진행하였다. 시뮬레이션 모델로 설정된 엣지형 백라이트는 LCD TV용으로 사용될 수 있는 두께 3 mm의 도광판, 측면에 배치된 세 개의 백색 LED와 램프 커버, 도광판의 하면에 배치된 반사 필름으로 구성되어 있다. 일반적인 엣지형 백라이트용 도광판과 같이 도광판의 입광면에 패턴이 형성되어 있지 않은 경우에는 도광판 상면의 조도균일도가 입광면과 LED 사이의 거리에 민감하게 의존하였다. 입광면과 LED 사이의 거리가 커질수록 조도균일도는 개선되다가 일정 거리 이상이 되면 개선이 둔화되는 경향성을 보였다. 반면에 도광판의 입광면에 렌티큘라(lenticular) 렌즈 배열이나 톱니모양(Serration)과 같은 미세 굴절 패턴을 형성하는 경우 LED가 입광면에 거의 붙어 있는 경우에도 패턴이 없는 경우에 비해 우수한 조도균일도를 보인다는 것을 알 수 있었고 조도균일도가 LED와 입광면 사이의 거리에 의존하는 정도가 줄어든다는 점도 확인하였다. 동일조건에서는 톱니모양 패턴이 렌티큘라 렌즈에 비해 우수한 조도균일도를 나타내었고 굴절률의 변화를 통해 추가적인 균일도 개선 효과를 얻을 수 있음도 확인하였다. 따라서 도광판의 입광면에 굴절 기능을 가지는 미세 패턴을 형성하고 그 광구조를 최적화하는 것은 LED에 의한 휘점 형성을 억제하고 LCD 측면의 비발광영역(베젤)을 줄이는데 있어서 매우 효과적인 방법이 될 수 있다는 것을 확인하였다.