• Proceedings of the IEEK Conference
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• 2003.11a
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• pp.477-480
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• 2003

This paper describes a novel method for image contrast enhancement by controlling gamma curve in AMLCD. The key idea is to automatically manipulate gamma voltage in accordance with the image data distribution. This method is applied to 17" SXGA LCD monitor module. The contrast ratio and the brightness are enhanced respectively by about 3 times and 1.7 times, by using the proposed method.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2002.08a
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• pp.24-27
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• 2002

Even though the TFT-LCD industry gained enough momentum that has been built up in past 10 years, the industry faces new challenges in order to maintain the 'true mainstream display' position in near future. The technical challenges can be summarized in two fold; one is image quality upgrade for different application area. Cost competitiveness is the other big issue in LCD for the continued leadership position in display industry. In this paper, we describe the technology advancement and the technical challenges in LCD to achieve these goals..

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2002.08a
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• pp.153-156
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• 2002

We have developed a pixel structure for reflective color TFT-LCD which can display 27-color in still-image. The proposed pixel can display 3 gray scale in still image; white, black and median gray. This paper shows the concept and the driving method of the proposed pixel. Finally this paper compares power consumption and area with the Toshiba's DMOG technology.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.75-75
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• 2012

박막 트랜지스터(TFT: Thin-Film-Transistor)는 미래 산업에 여러 가지로 사용 가능한 소자이기 때문에, 많은 연구가 진행되고 있고 그 성능이 계속 향상되고 있다. 특히, 평판 디스플레이인 AMLCD, AMOLED, 전자 종이 등이 모두 유리 혹은 플라스틱 기판에 향성된 TFT 어레이를 이용하고 있다. 현재 상업화에 응용되는 TFT는 비정질 실리콘과 저온 다결정 실리콘이며, 유기반도체 및 산화물 반도체 TFTs에 대한 연구가 매우 활발히 진행되고 있다. 본 발표에서는 산화물 반도체 TFT와 유기 반도체 TFT 기술 및 AMOLED에의 응용 기술 이슈에 대해 논의할 예정이다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2000.01a
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• pp.151-152
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• 2000

For excimer laser crystallization (ELC), energy density, number of pulses, beam uniformity, and condition of initial amorphous Si (a-Si) films are significant factors contributing the final microstructure and the performance of low-temperature polycrystalline Si TFTs. The process and equipment have been achieved a significant improvement, but still, environmental factors associated with initial amorphous Si (a-Si) films and process conditions need to be optimized.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08a
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• pp.327-331
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• 2007

The AMOLED industry must compete with AMLCD displays by standardizing around scaleable technology platforms that deliver display-performance and manufacturing-cost goals. Kodak White OLED device rchitectures have the potential to achieve the best performance and cost tradeoffs. Here we describe the building blocks necessary for delivering effective AMOLED mass production technologies.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08a
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• pp.12-15
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• 2007

Excimer-laser-based crystallization is ideallysuited for forming crystalline Si films on glass substrates for use in active-matrix displays. In this paper, we will report on recent and significant technical advances in light sources and beam delivery systems targeted at enabling ultra-uniform mura-free low-temperature polycrystalline silicon active-matrix backplanes while simultaneously lowering production costs and increasing throughput.

• The Transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers
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• v.58 no.11
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• pp.2219-2222
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• 2009

A new touch-sensitive hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) display with embedded optical sensor arrays is presented. The touch-sensitive panel operation was successfully demonstrated on a prototype of 16-in. active-matrix liquid crystal display (AMLCD). The proposed system provides the finger touched point without the real-time image processing of information of the captured images. Due to the simple architecture of the system, we expect the introduction of large-area touch-sensitive display panels.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.254-254
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• 2011

현재 AMLCD(Active Matrix Liquid Crystal Display)는 노트북, 컴퓨터, TV등 여러 영상매체에 있어 가장 많이 활용되고 있는 디스플레이로 손꼽힌다. AMLCD에 구동소자로 사용되는 a-Si:H TFT는 낮은 제조비용과 축적된 기술을 바탕으로 가장 많이 쓰이고 있다. 특히 a-Si이 가지는 소형화나 대형화의 편의성은 모바일 기기, projection TV, 광고용 패널 등 적용분야가 점점 넓어지고 있는 추세이다. 하지만 a-Si라는 물질 자체가 가지는 낮은 이동도는 더 많은 application을 위해 해결되어야 할 과제이다. 낮은 이동도는 a-Si 실리콘 원자간 결합의 불규칙성 및 무질서와 dangling bond에 의한 localize state(deep trap, band tail)의 존재 때문에 발생하며 결과적으로 TFT 소자의 특성의 저하를 가져온다. 앞선 연구에서는 carrier이동도의 개선을 위해서 첫 번째로 insulator층과 active층 사이의 계면 상태를 향상시키기 위해 insulator로 쓰이는 a-SiN층 표면에 0~18 sccm의 유량으로 phosphorus를 주입하였다. AFM분석을 해본 결과 phosphorus를 주입함으로써 계면의 roughness가 줄어드는 것을 확인 할 수 있었다. 이러한 계면의 roughness 감소는 표면 산란(surface scattering)및 전자 포획(trap)의 영향을 줄임으로써 이동도의 향상을 가져왔다. 두 번째로 active층으로 쓰이는 a-Si:H 층의 표면에 phosphorus를 0?9sccm의 유량으로 doping하였다. 이로 인해 channel이 형성되는 active 영역에 직접적으로 불순물을 doping됨으로써 전도도를 증가되어 이동도를 향상시켰다. 하지만 지나친 doping은 불순물 산란(impurity scattering)의 증가로 인해 이동도를 저하시키는 결과를 보여 주었다. 본 연구에서는 TFT의 이동도 향상을 위해 두 가지의 technology를 함께 적용시켜 a-SiN/a-Si:H 계면 각각에 phosphorus를 주입 및 doping을 하였다. 모든 박막은 PECVD로 제작하였으며 각 박막의 두께는 a-SiN/a-SiN(phosphorus)/a-Si:H(doped)/a-Si:H/n+ a-Si($2350{\AA}/150{\AA}/150{\AA}/1850{\AA}/150{\AA}$)으로 고정하고 유량을 변화시키면서 특성을 관찰하였다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2004.08a
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• pp.999-1002
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• 2004

We propose and simulate a new integrated DAC analog buffer composed of only p-type poly-Si TFTs in AMLCD and AMOLED. Proposed circuit employs a voltage level shifter which $V_{OUT}$ has a linear functional relation to $V_{IN}$. The proposed scheme enables to allow a constant $V_{GS}$ of buffer transistor so that the charging speed of pixel data address is improved.