• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.19 no.8
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• pp.7-15
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• 2002

• Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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• 2001.11a
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• pp.54-55
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• 2001

반도체 산업에서 메모리의 고집적화, 회로 패턴의 미세화에 따라 클린룸 공기중에 존재하는 분자상오염 물질 (Airborne Molecular Contaminants, AMCs)이 제조공정에 미치는 영향이 매우 중요하게 대두되었다$^{1)}$ . 분자상 오염물질은 입자상 오염물질과 달리 외관상 관찰이 어려우며, 오염 종류와 형태가 원소의 종류에 따라 매우 다양하게 나타난다. 클린룸에서의 입자상 오염물질은 고효율 필터(HEPA, ULPA)를 사용하여 제거 관리하고 있으나, 분자상 오염물질은 종류 및 형태조차 파악하지 못하고 있다. (중략)

• Proceedings of the SAREK Conference
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• 2006.06a
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• pp.442-447
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• 2006

In semiconductor manufacturing clean rooms, it becomes important to remove airborne molecular contaminants as well as particulate contaminant in outdoor air introduced into clean rooms. One suitable control technique for these chemical contaminants is air washing by water in an outdoor air handling unit. In order to enhance the removal efficiency of chemical contaminants the effect of adding a heating and humidifying process before an air washer was examined.