Journal of the Korean Data and Information Science Society
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v.19
no.3
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pp.723-734
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2008
The main reason for deinterlacing is frame-rate conversion. The other reason for deinterlacing is of course improve clarity and reduce flicker. Using a deinterlacer can help clarity and stability of the image. Many deinterlacing algorithms are available in image processing literatures such as ELA and E-ELA. This paper propose a new statistical deinterlacing algorithm based on statistical tests such as the Bartlett test, the Levene test and the Kruskal-Wallis test. The results obtained from the proposed algorithms are found to be comparable to those from many well-known deinterlacers. However, the results in the proposed deinterlacers are found to be more efficient than other deinterlacers.
디인터레이싱 방법은 크게 화면 간(Inter - Field) 디인터레이싱과 화면 내(Intra - Field) 디인터레이싱이 있고 화면 내 디인터레이싱 방법 중에는 대표적으로 라인카피와 라인별 평균값을 취하는 선형적인 방법, ELA 그리고 E-ELA 알고리즘 등이 있다. 기존 방식 중 선형적 보간법은 에지 블러링이나 계단현상이 발생하고 ELA, E-ELA알고리즘을 이용한 방법은 특정방향에지 정보가 없어 이미지에서 다양한 형태의 에지 부분의 디인터레이싱에 있어 성능이 좋지 못한 단점이 있다. 본 논문은 한 개의 필드를 사용하는 화면 내(Intra - Field) 디인터레이싱 방법을 사용하고 7방향의 에지 방향 보간법과 수평방향의 에지 라인을 고려하여 기존 방식에서 나타나던 오브젝트의 계단현상을 최대한 줄여줌으로써 향상된 화질을 보이는 디인터레이싱 알고리즘을 제안한다.
For each a.mem.S and f.mem.m(S), denote by $l_{a}$ f(s)=f(as) for all s.mem.S. If A is a norm closed left translation invariant subalgebra of m(S) (i.e. $l_{a}$ f.mem.A whenever f.mem.A and a.mem.S) containing 1, the constant ont function on S and .phi..mem. $A^{*}$, the dual of A, then .phi. is a mean on A if .phi.(f).geq.0 for f.geq.0 and .phi.(1) = 1, .phi. is multiplicative if .phi. (fg)=.phi.(f).phi.(g) for all f, g.mem.A; .phi. is left invariant if .phi.(1sf)=.phi.(f) for all s.mem.S and f.mem.A. It is well known that the set of multiplicative means on m(S) is precisely .betha.S, the Stone-Cech compactification of S[7]. A subalgebra of m(S) is (extremely) left amenable, denoted by (ELA)LA if it is nom closed, left translation invariant containing contants and has a multiplicative left invariant mean (LIM). A semigroup S is (ELA) LA, if m(S) is (ELA)LA. A subset E.contnd.S is left thick (T. Mitchell, [4]) if for any finite subser F.contnd.S, there exists s.mem.S such that $F_{s}$ .contnd.E or equivalently, the family { $s^{-1}$ E : s.mem.S} has finite intersection property.y.
The interpolation is used in many image processing applications such as image enhancement, de-interlacing/scan-rate conversion, wavelet transforms based on the lifting scheme, and so on. Among these, de-interlacing and scan-rate conversion are proposed for the digital TV applications. The de-interlacing algorithm can be classified into two categories. The first one uses only one field, called intra-field de-interlacing, and the other uses multiple field, called inter-field de-interlacing. In this paper, an efficient de-interlacing algorithm using spatial domain information is proposed far the interpolation of interlaced images. By efficiently estimating the directional correlations, improved interpolation accuracy has been achieved. In addition, the proposed method is simply structured and is easy to implement. Extensive simulations conducted for various images and video sequences have shown the efficacy of the proposed method with significant improvement over the previous intra-field do-interlacing methods in terms of the objective image quality as well as the subjective image quality.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.199-199
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2010
최근 평판 디스플레이 산업의 발전에 따라 능동행렬 액정 표시 소자 (AMOLED : Active Matrix Organic Liquid Crystral Display) 가 차세대 디스플레이 분야에서 각광을 받고있다. 기존의 TFT-LCD에 사용되는 a-Si:H는 균일도가 좋지만 전기적인 스트레스에 의해 쉽게 열화되고 낮은 이동도는 갖는 단점이 있으며, ELA (Eximer Laser Annealing) 결정화 poly-Si은 전기적인 특성은 좋지만 uniformity가 떨어지는 단점을 가지고 있어서 AMOLED 및 대면적 디스플레이에 적용하기 어렵다. 따라서 a-Si:H TFT보다 좋은 전기적인 특성을 보이며 ELA 결정화 poly-Si TFT보다 좋은 uniformity를 갖는 SPC (Solid Phase Crystallization) poly-Si TFT가 주목을 받고있다. 본 연구에서는 차세대 디스플레이 적용을 위해서 glass 기판위에 증착된 a-Si을 SPC 로 결정화 시킨 후 TFT를 제작하고 평가하였다. 또한 TFT 형성시에 저온공정을 실현하기 위해서 소스/드레인 영역에 실리사이드를 형성시켰다. 소자 제작시의 최고온도는 $500^{\circ}C$ 이하에서 공정을 진행하는 저온 공정을 실현하였다. Glass 기판위에 a-Si이 80 nm 증착된 기판을 퍼니스에서 24시간 동안 N2 분위기로 약 $600^{\circ}C$ 에서 결정화를 진행하였다. 노광공정을 통하여 Active 영역을 형성시키고 E-beam evaporator를 이용하여 약 70 nm 의 Pt를 증착시킨 후, 소스와 드레인 영역의 실리사이드 형성은 N2 분위기에서 $450^{\circ}C$, $500^{\circ}C$, $550^{\circ}C$에서 열처리를 통하여 형성하였다. 게이트 절연막은 스퍼터링을 이용하여 SiO2를 약 15 nm 의 두께로 증착하였다. 게이트 전극의 형성을 위하여 E-beam evaporator 을 이용하여 약 150 nm 두께의 알루미늄을 증착하고 노광공정을 통하여 게이트 영역을 형성 후 에 $450^{\circ}C$, H2/N2 분위기에서 약 30분 동안 forming gas annealing (FGA)을 실시하였다. 제작된 소자는 실리사이드 형성 온도에 따라서 각각 다른 특성을 보였으며 $450^{\circ}C$에서 실리사이드를 형성시킨 소자는 on currnet와 SS (Subthreshold Swing)이 가장 낮은것을 확인하였다. $500^{\circ}C$와 $550^{\circ}C$에서 실리사이드를 형성시킨 소자는 거의 동일한 on current와 SS값을 나타냈다. 이로써 glass 기판위의 SB-TFT 제작 시 실리사이드 형성의 최적온도는 $500^{\circ}C$로 생각되어 진다. 위의 결과를 토대로 본 연구에서는 SPC 결정화 방법을 이용하여 SB-TFT를 성공적으로 제작 및 평가하였고, 차세대 디스플레이에 적용할 경우 우수한 특성이 기대된다.
The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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v.32
no.10C
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pp.1000-1009
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2007
This paper presents a content adaptive interpolation (CAI) for intra deinterlacing. The CAI consists of three steps: pre-processing, content classification, and adaptive interpolation. There are also three main interpolation methods in our proposed CAI, i.e. modified edge-based line averaging (M-ELA), gradient directed interpolation (GDI), and window matching method (WMM). Each proposed method shows different performances according to spatial local features. Therefore, we analyze the local region feature using the gradient detection and classify each missing pixel into four categories. And then, based on the classification result, a different do-interlacing algorithm is activated in order to obtain the best performance. Experimental results demonstrate that the CAI method performs better than previous techniques.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.30
no.8
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pp.479-483
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2017
The effect of $NH_3$ plasma treatment on device characteristics was confirmed for an optimized thin film transistor of poly-Si formed by ELA. When C-V curve was checked for MIS (metal-insulator-silicon), Dit of $NH_3$ plasma treated and MIS was $2.7{\times}10^{10}cm^{-2}eV^{-1}$. Also in the TFT device case, it was decreased to the sub-threshold slope of 0.5 V/decade, 1.9 V of threshold voltage and improved in $26cm^2V^{-1}S^{-1}$ of mobility. Si-N and Si-H bonding reduced dangling bonding to each interface. When gate bias stress was applied, the threshold voltage's shift value of $NH_3$ plasma treated device was 0.58 V for 1,000s, 1.14 V for 3,600s, 1.12 V for 7,200s. As we observe from this quality, electrical stability was also improved and $NH_3$ plasma treatment was considered effective for passivation.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.17
no.10
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pp.109-118
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2016
Language intervention through cooking activity programs is designed to provide an efficient teaching method and improved educational environment in the field of teaching. This program addresses the effects of this program on the language development of three three-year-old infants (M;2, F;1) in the Center in Seoul. A cooking topic suitable for the age of this group was selected. The language Intervention was conducted for 50 minutes per week for a total of 25 times, and made use of vocabulary, verbs and nouns related to cooking which were evenly distributed. In this study, the Peabody Picture Vocabulary Test-Revised (PPVT-R), receptive language age (RLA) and expressive language age (ELA), and Preschool Receptive-Expressive Language Scale (PRES) were used to analyze the collected data. After the study, the cooking activity was accomplished with normal development outcomes appearing in the ability of vocabulary, receptive language, expressive language, and integrated language. There is now a solid evidence base supporting the efficacy of cooking activity in producing positive outcomes in the language development of language delayed infants. Consequently, cooking can induce their active participation and interest and extend their language abilities through various experiences.
Omega-3 fatty acids are a specific type of unsaturated fat that the body cannot manufacture on its own, so they must be obtained from food which is essential fatty acids (EFAs). Omega-3 fatty acids consist of three types which are a-Linolenic Acid (ALA), Eicosapentaenoic (ELA), and Docosahexaenoic Acid (DHA). Especially, EFAs help to prevent skin and hair drying, acne, eczema, prevention from allergies, brittle nails, rashes, and tiny lumps. The aim of this study is to investigate improvement and protection for hair damaged by chemical treatment with omega-3 formulated shampoo. We selected virgin hair sample and divided into two groups for bleaching once and three times and then damaged hair by changing the number of hair bleaching (twice with interval of 15 minutes). Each bleached hair was treated by five different kinds of shampoo (Control, Horse shampoo, DHA shampoo, EPA shampoo, Omega-3 shampoo mixture). Apart from this, EPA/DHA 2, 5, 8, 10 and 12% shampoo were prepared and treated to hair for comparing rate of progress in damaged hair. To quantify improved condition of damaged hair, we performed Scanning Electron Microscope (SEM) for ultrastructure of damaged hair fraction, measurement of thickness change and BCA Protein Assay for recovery rate of damaged hair. The moisture in hair was measured by Thermal analysis machine. In results, we observed the particle of hair surface damaged by bleaching treatment were well improved with treatment with EPA and DHA shampoo. Also, quantity of protein was lowered with higher concentration of EPA & DHA i.e., 8 and 12 % then compared with horse oil shampoo in three times treatment group. It shows that bleached hair have been recovered by treating rapidly and get protective coat. In conclusion, EPA and DHA shampoo improved damaged hair, especially with EPA / DHA 12% shampoo. Also, EPA shampoo could protect the damaged hair depending on increasing concentration of EPA. Therefore, we conclude omega-3 shampoo could make damaged hair protect and get healthy hair environment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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