• 전기학회논문지
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• 제62권7호
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• pp.963-968
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• 2013

Ionizing Radiation effects on MOS devices provide useful information regarding the behavior of MOS based devices and circuits in the electronic instrumentation parts and instructive data for making the high sensitive sensors. The study presents the results of the analysis on the structural characteristics of MOS capacitor for sensing the ionizing radiation effect. We performed numerical modeling of Ionizing-radiation effect on MOS capacitor and simulation using Matlab program. Also we produced MOS capacitors and obtained useful data through radiation experiment to analyse the characteristic of ionizing radiation effect on MOS capacitor. Increasing the thickness of MOS capacitor's oxide layer enhanced the sensitivity of MOS capacitor under irradiation condition, but the sensitivity of irradiated MOS capacitor is uninfluenced by the area of MOS capacitor. The high frequency capacitance of the MOS capacitor is found to be strongly affected by incident ionizing radiation.

• 전기전자학회논문지
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• 제12권4호
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• pp.211-216
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• 2008

이 논문은 MOS 전류모드 논리 (MOS current-mode logic circuit, MCML) 회로를 이용하여 저 전력 특성을 갖는 8${\times}$8 비트 병렬 곱셈기를 설계하였다. 설계한 곱셈기는 회로가 동작 하지 않을 때의 정적 전류의 소모를 최소화하기 위하여 슬립 트랜지스터 (sleep-transistor)를 이용하여 저 전력 MOS 전류모드 논리회로를 구현하였다. 설계한 곱셈기는 기존 MOS 전류모드 논리회로에 비해 대기전력소모가 1/50으로 감소하였다. 또한, 이 회로는 기존 MOS 전류모드 논리회로에 비해 전력소모에서 10.5% 감소하였으며, 전력소모와 지연시간의 곱에서 11.6%의 성능 향상이 있었다. 이 회로는 삼성 0.35${\mu}m$ 표준 CMOS 공정을 이용하여 설계하였으며, HSPICE를 통하여 검증하였다.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2008년도 하계종합학술대회
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• pp.1181-1182
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• 2008

The study presents the results of the analysis on the structural characteristics of MOS capacitor for sensing the ionizing radiation effect. Increasing the thickness of MOS capacitor's oxide layer enhanced the sensitivity of MOS capacitor under irradiation condition, but the sensitivity of irradiated MOS capacitor is uninfluenced by the area of MOS capacitor.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1992년도 추계학술대회 논문집
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• pp.123-127
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• 1992

MOS 커패시터가 이온화 방사선에 노출되었을 경우, MOS 커패시터의 방사선 조사 효과는 소자의 전기적 특성 및 동작 수명에 심각한 영향을 일으킬 수 있다. MOS 커패시터는 (100) 방향의 P-type Si wafer 위에 산화막층을 $O^2$+T.C.E. 분위기에서 성장하였으며, 그 두께는 40~80 nm로 만들었다. MOS 커패시터에 대한 방사선 조사는 $Co^{60}-{\gamma}$선을 사용하였고, 조사선량은 $10^4{\sim}10^8$으로 조사하였다. MOS 커패시터에서 전기적 전도 특성의 방사선 조사효과는 산화막 두께와 조사선량을 변화하면서 측정된 P-type MOS 커패시터는 조사선량에 의해서 강하게 영향을 받는다는 것과 저전계 영역에서의 Ohmic 전류가 전체 선량에 의존한다는 것을 알았다. 이 결과는 방사선 조사에 의해 산화막 트랩전하와 산화막-반도체($SiO_2$-Si)계면 트랩전하에 의해서 설명 할 수 있다.

• Asian-Australasian Journal of Animal Sciences
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• 제20권7호
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• pp.1084-1091
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• 2007

Different levels of dietary mannanoligosaccharide (Bio-MOS, Alltech Inc.) were evaluated for their efficacy on performance and gut development of broiler chickens during a 6-week experimental period. Experimental diets contained (g MOS/kg diet) a low (0.5 g during the entire period), medium (1 g during the entire period), high (2 g during the entire period), or step down (2 g in the first week; 1 g in the second and third week; 0.5 g in the last three weeks) level of MOS. Control diets included a negative and a positive control (zinc bacitracin, ZnB, 50 ppm and 30 ppm in the first and last three weeks, respectively). MOS supplementation improved the growth performance of young birds and the effects became less when the birds got older. The growth response of birds was more obvious at the high dosage level of MOS treatment than the other MOS treatments and the growth performance of birds fed on the high MOS diet was comparable to that of birds fed on the ZnB diet. Depending on the dosage level and the age of birds, MOS seemed to reduce the size of the liver and the relative length of the small intestine but did not affect the relative weight of the other visceral organs (proventriculus, gizzard, pancreas, bursa and spleen) and that of the small intestine. A numerical increase in the small intestine digestibility of nutrients was noticed in the young birds fed on the MOS diet(s), but not in the older ones. Medium and/or high MOS treatment also increased the villus height of the small intestine of birds at different ages. Similar results were observed on the ZnB treatment. However, MOS and ZnB affected caecal VFA profile in different ways. MOS increased, or tended to increase, whereas ZnB reduced individual VFA concentrations in the caeca.

• 정보처리학회논문지A
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• 제15A권2호
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• pp.69-74
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• 2008

본 논문은 MOS 전류모드 논리회로 (MOS current-mode logic circuit)의 누설전류를 감소시키기 위해 슬립 트랜지스터 (sleep-transistor) 트랜지스터를 이용하여 저 전력 MOS 전류모드 논리회로를 구현하는 새로운 구조를 제안하였다. 슬립 트랜지스터는 누설전류를 최소화하기 위해 고 문턱전압 PMOS 트랜지스터 (high-threshold voltage PMOS transistor)를 사용하였다. $16\;{\times}\;16$ 비트 병렬 곱셈기를 제안한 구조에 적용하여 제안한 구조의 타당성을 입증하였다. 이 회로는 기존 MOS 전류모드 논리회로 구조에 비해 대기전력소모가 1/50으로 감소하였다. 이 회로는 삼성 $0.35\;{\mu}m$ 표준 CMOS 공정을 이용하여 설계하였으며, HSPICE를 이용하여 검증하였다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제46권4호
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• pp.21-27
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• 2009

본 연구에서는 고온에서 Schottky barrier SOI nMOS 및 pMOS의 전류-전압 특성을 분석하기 위해서 Er 실리사이드를 갖는 SB-SOI nMOSFET와 Pt 실리사이드를 갖는 SB-SOI pMOSFET를 제작하였다. 게이트 전압에 따른 SB-SOI nMOS 및 pMOS의 주된 전류 전도 메카니즘을 온도에 따른 드레인 전류 측정 결과를 이용하여 설명하였다. 낮은 게이트 전압에서는 온도에 따라 열전자 방출 및 터널링 전류가 증가하므로 드레인 전류가 증가하고 높은 게이트 전압에서는 드리프트 전류가 감소하여 드레인 전류가 감소하였다. 고온에서 ON 전류가 증가하지만 드레인으로부터 채널영역으로의 터널링 전류 증가로 OFF 전류가 더 많이 증가하게 되므로 ON/OFF 전류비는 감소함을 알 수 있었다. 그리고 SOI 소자나 bulk MOSFET 소자에 비해 SB-SOI nMOS 및 pMOS의 온도에 따른 문턱전압 변화는 작았고 subthreshold swing은 증가하였다.

• 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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• 제어로봇시스템학회 1996년도 Proceedings of the Korea Automatic Control Conference, 11th (KACC); Pohang, Korea; 24-26 Oct. 1996
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• pp.207-210
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• 1996

This paper describes the analysis of the operation of the switched snubber in order to depress the surge voltage in the MOS-FET inverter. In this paper, the N-channel MOS-FET which operates faster than the P-channel MOS-FET was used for the inverter circuit. So, the inverter and switched snubber can operate at high-frequency in the order of MHz. The cause of generating the surge voltage in the high frequency inverter has been cleared, and then how to depress the surge voltage using the switched snubber consisting of an N-channel MOS-FET has been given. Furthermore, described is the power loss within the switched snubber which is made of an N-channel MOS-FET. The inverter having the N-channel MOS-FET used as a switched snubber can drive such a low impedance load such as mega-sonic transducer for a mega-sonic studied cleaner sufficiently.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1991년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.231-233
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• 1991

This paper discribes a study on the switching character of MOS-GTO and the design of gate drive circuit. Chopping power supply converter, synchronious and asyncronious motor speed adjustment, inverter, etc., needs low drive energy "high frequency" switches. To fulfill these need, switches must have rapid switching time and insulated gate control. MOS-GTO structure is well suited to these constraints. The power switch is serial installation of a GTO thyrister and a MOS Transistor. The gate of the GTO is linked to positive pole of the cascode structure via a MOS high voltage transistor and ground via a transient absorber diode. This high performance MOS-GTO assembly considerably increases the strength which facilitate the drive of GTO thyristers.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제17권4호
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• pp.373-377
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• 2004

We have investigated the electrical characterization of metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitors formed on the inductively coupled plasma (ICP) etch-damaged both n- and p-type 4H-SiC. We found that there was an effect of a sacrificial oxidation treatment on the etch-damaged surfaces. Current-voltage and capacitance-voltage measurements of these MOS capacitors were used and referenced to those of prepared control samples without etch damage. It has been found that a sacrificial oxidation treatment can improve the electrical characteristics of MOS capacitors on etch-damaged 4H-SiC since the effective interface density and fixed oxide charges of etch-damaged samples have been found to increase while the breakdown field strength of the oxide decreased and the barrier height at the SiC-SiO$_2$ interface decreased for MOS capacitors on etch-damaged surfaces.