Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2010.05a
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pp.6.2-6.2
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2010
Stainless steel is widely known to have superior corrosion properties. However, in some harsh conditions it still suffers various kinds of corrosions such as galvanic corrosion, pitting corrosion, intergranular corrosion, chloride stress corrosion cracking, and etc. For the corrosion protection of stainless steel, the ceramic coatings such as protective silica film can be used. The sol-gel coating technique for the silica film has been extensively studied especially because of the cost effectiveness. It has been proved that silica can improve the oxidation and the acidic corrosion resistance of metal surface in a wide range of temperatures due to its high heat and chemical resistance. However, in the sol-gel coating process there used to engage a heat treatment at an elevated temperature like $500^{\circ}C{\sim}600^{\circ}C$ where cracks in the silica film would be formed because of the thermal expansion mismatch with the metal. The cracks and pores of the film would deteriorate the corrosion resistance. When the heat treatment temperature is reduced while keeping the adhesion and the density of the film, it could possibly give the enhanced corrosion resistance. In this respect, inorganic protective silica film was tried on the surface of stainless steel using a sol-gel chemical route where silica nanoparticles, tetraethoxysilane (TEOS) and methyltriethoxysilane (MTES) were used. Silica nanoparticles with different sizes were mixed and then the film was deposited on the stainless steel substrate. It was intended by mixing the small and the large particles at the same time a sufficient consolidation of the film is possible because of the high surface activity of the small nanoparticles and a modest silica film is obtained with a low temperature heat treatment at as low as $200^{\circ}C$. The prepared film showed enhanced adhesion when compared with a silica film without nanoparticle addition. The films also showed improved protect ability against corrosion.
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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v.29
no.1
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pp.98-106
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2005
The chemical conversion film formed on magnesium alloy was investigated by using the colloidal silica with some parameters such as solution pH. temperature, solution conditions, and treatment time. Moreover. the solutions consisted of colloidal silica titanium sulfate, and cobalt ions were used for the colloidal silica film to having a good corrosion resistance and adhesion properties. It was thought that the film at 298K was made with combination of Si-O. The quantity of film formed at high temperature such as 333K and 353K is smaller than dissolved quantity during chemical conversion treatment. Adding $CoSO_4$ to the colloidal silica solution enhanced the adhesion force between the silica film and magnesium substrate, The optimum conditions for the chemical conversion treatment solution were PH 2.90 s treatment, and 298K.
Ha, Tae-Jung;Choi, Sun-Gyu;Yu, Byoung-Gon;Park, Hyung-Ho
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.45
no.1
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pp.48-53
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2008
In order to reduce signal delay in ULSI, an intermetal material of low dielectric constant is required. Ordered mesoporous silica film is proper to intermetal dielectric due to its low dielectric constant and superior mechanical properties. The ordered mesoporous silica film prepared by TEOS (tetraethoxysilane) / MTES (methyltriethoxysilane) mixed silica precursor and Brij-76 surfactant was surface-modified by HMDS (hexamethyldisilazane) treatment to reduce its dielectric constant. HMDS can substitute $-Si(CH_3)_3$ groups for -OH groups on the surface of silica wall. In order to modify interior silica wall, HMDS was treated by two different processes except the conventional spin coating. One process is that film is dipped and stirred in HMDS/n-hexane solution, and the other process is that film is exposed to evaporated HMDS. Through the investigation with different HMDS treatment, it was concluded that surface modification in evaporated HMDS was more effective to modify interior silica wall of nano-sized pores.
Micro hollow plate type silica with low refraction properties was synthesized and its hollow structure was applied as an optical structure to develop a light diffusion material that simultaneously satisfies the requirements of good light diffusibility, high transmissibility, and high luminance. The developed light diffusion material was applied to a light diffusion film and the film's optical properties were assessed. Hollow silica was synthesized by precipitation method using $Mg(OH)_2$ core particles, sodium silicate, and ammonium sulfate as the silica precursors. The concentration of the silica precursor was adjusted to control hollow silica shell thickness. The total light transmittance of the light diffusion film composed of the hollow silica was 94.55%, which was 4.57% higher than that of the PC film; new film's haze was 71.20%, which was 70.9% higher. Furthermore, the luminance increased by 5.34% compared to that of the light source. The reason for the results is not only that the micro plate type hollow silica, which has a low refractive property, played a role in reducing the difference in refractive index between the medium boundaries, but also that there was a light-concentrating effect due to the changing of light paths to the front direction inside the hollow structure. Optical simulation verified the enhanced optical properties when hollow silica was applied to the light diffusion film.
Anti-reflection film was coated by using spherical silica nano colloidal particles and fumed silica particles. Silica colloid sol was reserved between two inclined slide glasses by capillary force, and particles were stacked to form a film onto the substrate as the upper glass was sliding. The deposition processes were studied to enhance the wavelength dependency of the light transmittance and to control the effective refractive index of the film. Both of the spherical and fumed silica particles showed an enhancement of $4.0-4.4\%$ in light transmittance by one step coating. The dependence of the transmittance on wavelength was largely improved at the longer wavelength by partial coating of fumed particles on the film of spherical particles. The effective refractive index of the film was controlled by removing latex particles that were co-deposited with silica particles. Using this process the light reflectance from one side of the glass substrate could be reduced from $4.2\%$ to $0.6\%$ although zero reflectance was not achieved due to the agglomeration of the latex particles.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.20
no.1
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pp.35-40
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2007
The new PEI(poly(epoxy-imide))-nano Silica film has been synthesized via in situ CS sol process, and the chemical bonding and microstructure of nano silica dispersed in resin were examined by FT-IR, TAG and SEM. The dielectric properties of these hybrid films over a given temperature and frequency ranges have been studied in a point of view of stable chemical bonding of nano Silica filler. The results from IR spectra and SEM photograph indicated that PEI-Silica hybrid film prepared with nano CS sol process has been synthesized in uniform and chemical bonding. The decrease property of dielectric constant with CS content, tangent loss consistent of given frequency and temperature has been explained in terms of the chain movement of polymer through chemical bonging and size effect of nano silica. The new PEI-CS sol hybrid film with such stable chemical and dielectric properties was expected to be used as a high functional coating application in ET, IT and electric power products.
Anti-reflection film was coated by using spherical silica nano colloids. Silica colloid sol was reserved between two inclined slide glasses by capillary force, and particles were convectively stacked to form a film onto the substrate as the water evaporates. As the sliding speed increased, the thickness of the film decreased and the wavelength at the maximum transmittance decreased. The microstructure observed by SEM showed that silica particles were nearly close packed, which enabled the calculation of the effective refractive index of the film. The film thickness was measured by proffer and calculated from the wavelength of maximum transmittance and the effective refractive index. The effective refractive index of the film could be controlled by a subtle controlling of the coating speed and by mixing two different sized silica particles. When the 100 nm and 50 m particles were mixed at 4:1-5:1 volume ratio, the maximum transmittance of $95.2\%$ for one-sided coating was obtained. This is the one that has increased by $3.8\%$ compared to bare glass substrate, and shows that $99.0\%$ of transmittance or $1.0\%$ of reflectance can be achieved by the simple process if both sides of the substrate are coated.
Ha, Tae-Jung;Choi, Sun-Gyu;Reddy, A. Sivasankar;Yu, Byoung-Gon;Park, Hyung-Ho
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.159-159
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2007
In order to reduce a signal delay in ULSI, low resistive metal and intermetal dielectric material of low dielectric constant are required. Ordered mesoporous silica film is proper to intermetal dielectric due to its low dielectric constant and superior mechanical properties. In this study, ordered mesoporous silica films was synthesized using TEOS (tetraethoxysilane) / MTES (methyltriethoxysilane) mixed silica precursor and Brij-$76^{(R)}$ surfactant. These films had the porosity of 40% and dielectric constant of 2.5. To lower dielectric constant, the ordered mesoporous silica films were surface-modified by HMDS (hexamethyldisilazane) treatment. HMDS substituted -OH groups on the surface of silica wall for -Si$(CH_3)_3$ groups. After the HMDS treatment, ordered mesoporous silica films were calcined at various calcination temperatures. Through the investigation, it was concluded that the proper calcination temperature is necessary as aspects of structural, electrical, and mechanical properties.
Silica-polyurethane hybrid breathable films were prepared and their breathabilities were assessed. Appropriately aggregated silica was prepared through sol-gel reaction of water glass and its particle size ranged 360~500nm. The polyurethane dispersion was prepared by the reaction of isophorone diisocyanate(IPDI) as diisocyanate and polytetramethylene glycol(PTMG) and dimethylol propionic acid(DMPA) as polyol, particle size ranging 30~120nm. The reaction between isocyanate and hydroxyl group to form urethane bonding was checked by the intensity of the stretch peak of isocyanate at $2270cm^{-1}$ in the FT-IR. The silica was incorporated into polyurethane dispersion and casted into film. It was shown that the incorporated silica(1~5wt.%) increased water vapour permeability of the films by 30~100%, and decreased the hydrostatic pressure by 10~40%. From the results, it could be concluded that the appropriate hybridization of silica can increase the breathability of polyurethane dispersion film, while minimizing the loss of hydrostatic pressure.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.553-554
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2007
By sol-gel method, we have fabricated silica-titania hybrid film using silane treated colloidal $TiO_2$ and characterized the film through FT-IR, TGA, UV-VIS and AFM. The silica-titania hybrid film showed Ti-O-Si chemical bond at FT-IR peak of $910{\sim}940cm^{-1}$. The fabricated hybrid film showed thermal stability of around $350^{\circ}C$(5wt% loss temperature) and transparency more than 90%. In addition, the good surface smoothness was confirmed by AFM. Therefore, the silica-titania hybrid film with outstanding properties can be potential for application in electronics and displays.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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