반도체 공정에서 웨이퍼의 온도균일도향상을 위한 고속열처리공정기의 최적 파라미터 설계 (The optimal paremeter design of rapid thermal processing to improve wafer temperature uniformity on the semiconductor manufacturing)
-
- 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
- /
- 제어로봇시스템학회 1997년도 한국자동제어학술회의논문집; 한국전력공사 서울연수원; 17-18 Oct. 1997
- /
- pp.1508-1511
- /
- 1997