대면적 LCD용 ICP소스에 대한 수치 해석적 분석

A Numerical Analysis on the Development of ICP Source for Large Area LCD

  • 이주율 (중앙대학교 전자공학과 반도체 공정 소자 연구실) ;
  • 이영직 (중앙대학교 전자공학과 반도체 공정 소자 연구실)
  • 발행 : 1998.10.01

초록

In this paper, we analyzed electric field density and plasma condition to ICP reactor geometry structure, to generate plasma, to maintain plasma uniformity of large area LCD panel in ICP reactor also, we simulated electric field density for all kind existence current (antena and plasma current) in ICP reactor to analyze plasma antena structure

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