Inductively Coupled Plasma (ICP) Oxidation for Low-Temperature Poly-Si Thin Film Transistors

저온 다결정 실리콘 박막트랜지스터용 유도결합플라즈마 산화

  • 최용우 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 안병태 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 1998.05.01