Rf-magnetron 스퍼터링 법을 이용한 MOS 게이트용 $HfO_{2}/Hf-silicate$ 박막의 증착 및 특성 분석

• Lee, Heon-Jeong ;
• Bae, Geun-Hak ;
• Jeong, Dong-Geun ;
• Gang, Hyeok-Su ;
• No, Yong-Han ;
• Yang, Cheol-Ung

• 이헌정 (성균관대학교 물리학과) ;
• 배근학 (성균관대학교 물리학과) ;
• 정동근 (성균관대학교 물리학과) ;
• 강혁수 (성균관대학교 전기전자컴퓨터공학부) ;
• 노용한 (성균관대학교 전기전자컴퓨터공학부) ;
• 양철웅 (성균관대학교 금속재료공학부)

• Published : 2001.02.22

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