Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

2006.10a
/
Pages.31-32
/
2006

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)

권호 표지

Remote plasma etching of amorphous silicon using pin to plate dielectric barrier discharge

Pin to Plate Dielectric Barrier Dischrge 방식의 Romote 대기압 플라지므라르 이용한 비정질 Si 식각

박재범 (성균관 대학교 신소재공학부, 플라즈마 장치 및 공정 기술 연구실) ;
경세진 (성균관 대학교 신소재공학부, 플라즈마 장치 및 공정 기술 연구실) ;
염근영 (성균관 대학교 신소재공학부, 플라즈마 장치 및 공정 기술 연구실)

Published : 2006.10.19

PDF

⟨ Previous Next ⟩

Abstract

Keywords