Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Infinite etch selectivity of silicon nitride to ArF PR in dual-frequency $CH_2F_2/H_2/Ar$ capacitively coupled plasmas

Dual-frequency $CH_2F_2/H_2/Ar$ capacitively coupled plasma 에서 실리콘 나이트라이드와 ArF PR의 무한대 에치 선택비

  • 박창기 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이춘희 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 김희대 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 손종원 (주성엔지니어링 ㈜)
  • Published : 2006.04.01
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