Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Low Temperature Deposition of ITO thin films by Facing Target Sputtering

대향타겟식 스퍼터를 이용한 ITO박막의 저온 합성

  • 김연준 (성균관대학교, 신소재공학과, 플라즈마 응용 표면기술 연구센터) ;
  • 최동훈 (성균관대학교, 신소재공학과, 플라즈마 응용 표면기술 연구센터) ;
  • 금민종 (성균관대학교, 신소재공학과, 플라즈마 응용 표면기술 연구센터) ;
  • 한전건 (성균관대학교, 신소재공학과, 플라즈마 응용 표면기술 연구센터)
  • Published : 2007.11.12
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Abstract

저온 공정이 가능한 대향타겟식 스퍼터 (Facing Target Sputtering, FTS) 를 이용하여 Flexible display에 적용 가능한 polymer 기판위에 산소 가스 유량비 변화에 따라 ITO를 합성하였다. 산소의 유량이 2.8 sccm 일 때 가시광 영역에서 85%이상의 투과도와 2.26 ${\sim}$ 10$^{-4}$ ${\Omega}$ cm의 가장 낮은 전기적 특성을 나타내었다.

Keywords