Preparation of ITO thin film with oxygen gas flow

산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막의 제작

  • 금민종 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 전아람 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 최동훈 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 이교웅 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 한전건 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2007.11.12

Abstract

마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막을 실온 제작하였다. 그 결과 산소 가스 유량의 증가에 따라 박막의 비저항이 감소하였으며 적정 유량 이상에서는 비저항이 증가하였다. 또한 산소 가스 유량을 3 sccm으로 고정한 후 ITO 박막의 두께를 변화시킨 경우 막 두께 40nm 이상에서 부터는 $0.6{\sim}0.8$ $m{\Omega}-cm$의 비저항과 가시광 영역에서 80% 이상의 광투과율 특성을 나타내었다.

Keywords