Cu CMP 에서 웨이퍼 사이즈에 따른 연마율 경향성과 열적효과

Removal Rate and Thermal Effect on Wafer Size in Cu CMP

  • 박영봉 (부산대학교 기계공학과 정밀가공시스템) ;
  • 안준호 (부산대학교 기계공학과 정밀가공시스템) ;
  • 이명한 (지앤피테크놀로지(주)) ;
  • 김형재 (생산기술연구원) ;
  • 정해도 (부산대학교 기계공학과 정밀가공시스템)
  • 발행 : 2008.06.11