준 3 차원 나노급 형상가공을 위한 전자빔의 전압별 노광 특성

E-beam Lithography Characteristics with Acceleration Voltage for Quasi-3D Nano-machining

  • 김재구 (한국기계연구원 나노기계연구본부) ;
  • 오승훈 (부산대학교 나노시스템공정학과) ;
  • 조성학 (한국기계연구원 나노기계연구본부) ;
  • 정명영 (부산대학교 나노시스템공정학과) ;
  • 최두선 (한국기계연구원 나노기계연구본부)
  • 발행 : 2008.06.11