Electric Characteristics of $HfO_$2 deposited by Atomic Layer Deposition

  • 김수현 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 박재경 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 노용한 (성균관대학교 정보통신공학부)
  • Published : 2008.08.20