Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Effects of substrate bias and pulse frequency on the crystalline and microstructure of TiN films deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering

바이어스 전압과 Duty 변화에 따른 펄스 DC 마그네트론 TiN막의 결정배향성 및 미세구조 연구

  • 서평섭 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 한만근 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 서현 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 박원근 (목포대학교 신소재공학과) ;
  • 전성용 (목포대학교 신소재공학과)
  • Published : 2009.05.27
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Abstract

TiN 코팅은 뛰어난 기계적 성질 및 내식성으로 산업전반에 걸쳐 널리 이용되고 있다. 본 연구에서는 비대칭 바이폴라 펄스 DC 반응성 마그네트론 장비를 이용하여 바이어스전압, 펄스주파수 및 Duty를 변화시키면서 TiN 박막을 제작하였다. 위와 같은 3가지 플라즈마 변수의 변화에 따른 TiN 박막의 결정 배향성 및 미세구조에 미치는 영향에 대해 주목하였다.

Keywords