Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Physical and Chemical Characteristics of AlN Thin Film by RF Magnetron Sputtering

RF 마그네트론 스퍼터링법으로 증착된 AlN 박막의 물리적, 화학적 특성에 관한 연구

  • 윤철 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ;
  • 김상호 (한국기술교육대학교 신소재공학과)
  • Published : 2009.10.14
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Abstract

RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 증착 power density에 따른 AlN 박막의 배향성과 표면 거칠기 그리고 열전도도 특성의 변화를 조사하였다. 특히 power density가 1.79 W/$cm^3$일 때 가장 우수한 배향성을 얻을 수 있었다. 이러한 배향성과 연관시켜 박막의 미세구조, 표면거칠기, 유전율 등을 분석하였으며, 이러한 특성이 열전도도에 미치는 영향에 대하여 연구하였다.

Keywords