한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
- /
- Pages.369-369
- /
- 2010
광반사분광기와 신경망을 이용한 플라즈마 공정장비의 실시간 감시
Real time monitoring of plasma processing equipment using optical emission spectroscopy and neural network
- Kim, Dae-Hyun (Sejong University) ;
- Kim, Byung-Whan (Sejong University)
- 발행 : 2010.06.16
초록
소자제조 공정의 질과 생산성을 향상시키기 위하여 플라즈마 감시가 필요하다. 본 연구에서는 광반사분광기(Optical Emission Spectroscopy)를 이용하여 소스전력의 변화에 따른 플라즈마 상태 데이터를 수집하였다. 수집된 데이터를 이용한 시계열 신경망 감시 모델을 개발하였으며, 개발된 모델과 CUSUM(Cumulative Sum Control Chart)를 결합하여 플라즈마의 이상 상태를 실시간으로 감시하는 기법을 개발하였다. 매우 우수한 감시 성능을 확인할 수 있었다.