Softlithography 의 ${\mu}CM$ 기법에서 웨이퍼의 균일 잉크 분포를 위한 잉크와 회전수의 영향

Effect of the ink and number of rotations for the uniform ink distribution of the wafer from Softlithography ${\mu}CM$ techniques

  • 발행 : 2010.11.11