스텝 엔드 리피트 설영로광방식의 미세형상 선폭조절에 관한 연구

The Study on the control of Pattern Linewidth for the Step and Repeat Projection Imaging

본 논문에서는 스텝 엔드 리피트(step and repeat)투체량광방식의 광학 lithography 특성을 고찰하였다. 먼저 광학 lithography 특성에 영향을 주는 파라메터들의 상호관계를 고찰하였고, 표면평편도가 ±5μm인 마스크(mash)상에서 실험하여 미사형상의 선폭편차에 대한 선폭편차의 관계와 노광량에 따른 선폭 변화의 관계를 얼었다. 이들 관계로부터 스텝 엔드 리피트 투영 노광에서의 미세형상의 선고조절의 안정화를 이루게 하는 조건을 제시한다.

The charcterization of optical lithography on the step and repeat projection system is studied. Parameters that influence optical lithography were analyzed and the experiment was performed on the mask of $\pm$ 5rm, the surface flatness. From the experiment, the relationship between linewidth diviation on defocus and linewidth shift on exposure of the small features is obtained. Conditions maintaining good uniformity of small features from these relation-ships is presented.