Stability of Spheroplasts from Saccharomyces cerevisiae D-71 and Zygosaccharomyces rouxii SR-S

Saccharomyces cerevisiae D-71과 Zygosaccharomyces rouxii SR-S로부터 조제한 원형질체의 안정성

Stability of spheroplasts prepared from Saccharomyces cerevisiae D-71, a thermophilic strain and Zygosaccharomyces rouxii SR-S, an osmotolerant strain were studied. Stability of spheroplast from Saccharomyces cerevisiae D-71 was highest in 0.8M KCI and 1.0M sorbitol ; that from Zygosaccharomyces rouxii SR-S was highest in 0.4M KCI and mannitol and that from both strains was less than 10% for sonic oscillation at 20Kc for 60 sec. In centrifugation at 10000 x g for 10 min., stability of spheroplast from Saccharomyces cerevisiae D-71 was 93% and that from Zygosaccharomyces rouxii SR-S was 84%. Breakage of spheroplast from Saccharomyces cerevisiae D-71 was 99% and that from Zygosaccharomyces rouxii SR-S was 55% for UV irradiation with 15W UV lamp at a distance of 20 cm for 60 min.

고온발효성인 Sacch. cerevisiae D-71과 내삼투압 성인 Zygosacch. rouxii SR-S의 원형질체를 조제하고 분리하여 그의 안정성을 검토하였다. Sacch. cerevisiae D-71의 원형질체는 0.8M KCI 과 1.0M sorbitol에서, Zygosacch. rouxii SR-S의 원형질체는 0.4M KCI과 mannitol에서 가장 안정하였고 두 효모의 원형질체들을 20Kc로 60초간 초음파 처리하였을 때 90% 이상이 파괴되었다. 또한 10000$\times$g로 10분간 처리하였을 때 Sacch. cerevisiae D-71의 원형질체는 93%, Zygosacch. rouxii SR-S의 원형질체는 84%의 안정성을 보였고 이들 원형질체들을 15W의 자외선 등으로 20cm에서 60분간 처리하였을 때 Sacch. cerevisiae의 원형질체는 99%, Zygosacch. rouxii SR-S의 원형질체는 55%가 파괴되었다.