Abstract
The present research is focused on the effect of porous graphite what is influenced on the 4H-SiC crystal growth by PVT method. We expect that it produces more C-rich and a change of temperature gradient for polytype stability of 4H-SiC crystal as adding the porous graphite in the growth cell. The SiC seeds and high purity SiC source materials were placed on opposite side in a sealed graphite crucible which was surrounded by graphite insulator. The growth temperature was around $2100{\sim}2300^{\circ}C$ and the growth pressure was 10~30 Torr of an argon pressure with 5~15 % nitrogen. 2 inch $4^{\circ}$ off-axis 4H-SiC with C-face (000-1) was used as a seed material. The porous graphite plate was inserted on SiC powder source to produce a more C-rich for polytype stability of 4H-SiC crystal and uniform radial temperature gradient. While in case of the conventional crucible, various polytypes such as 6H-, 15R-SiC were observed on SiC wafers, only 4H-SiC polytype was observed on SiC wafers prepared in porous graphite inserted crucible. The defect level such as MP and EP density of SiC crystal grown in the conventional crucible was observed to be higher than that of porous graphite inserted crucible. The better crystal quality of SiC grown using porous graphite plate was also confirmed by rocking curve measurement and Raman spectra analysis.
본 연구에서는 PVT법으로 4H-SiC 단결정 성장 시 다공성 흑연판을 사용하여 Si/C 비율이나 온도구배, 물질전달의 향상시킴으로써 고품질의 SiC 단결정 기판 제작을 목적으로 연구를 진행하였다. 연구에 사용된 SiC 소스 물질은 흑연 도가니에 넣어 흑연 단열재로 쌓인 구조로 실험을 하였다. 성장온도는 $2100{\sim}2300^{\circ}C$, 그리고 성장압력은 10~30 Torr의 압력으로 아르곤과 질소 분위기에서 성장시켰다. 종자정은 2인치의 $4^{\circ}$ off-axis 4H-SiC의 C면 (000-1)을 사용하였고 다공성 흑연판은 SiC 소스 물질 위에 삽입하였다. 4H-SiC 결정다형 안정화를 위한 C-rich 조건이나 균일한 온도구배를 만들어주기 위해 다공성 흑연판을 삽입하여 실험을 진행하였다. 일반적인 도가니의 경우, 성장된 wafer에서 6H-, 15R-SiC와 같은 다양한 결정다형이 관찰된 반면에 다공성 흑연판을 삽입한 도가니에서는 4H-SiC만 관찰되었다. 또한 다공성 흑연판을 삽입한 도가니에서 성장된 결정에서 MP나 EP의 낮은 결함밀도를 보였으며 결정성 또한 향상된 것을 학인하였다.
