Deposition of polycrystalline Si thin film on glass substrates by using a direct negative Si ion beam source

직접 금속 음이온 빔 장치를 이용한 다결정 Si 박막 증착

  • 김유성 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 최대한 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 최비공 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 장호성 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 이진희 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 박지혜 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 유용주 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 천희곤 (울산대학교 첨단소재공학부) ;
  • 김대일 (울산대학교 첨단소재공학부)
  • Published : 2006.04.01