pphotostimulated desorpption of NO chemisorbed on ppt(001) at 80K has been studied by the (1+1)-resonance-enhanced multipphoton ionization((1+1)-REMppI) technique. A linearly ppolarized ArF excimer laser ( =193 nm, 6.41eV) is used as the ppumpp laser. A high adsorpption rate selectivity was found in the expposure deppendence of the NO desorpption yield. The NO desorpption yield increases drastically when the amount of NO expposure exceeds ~1.8 L. This result shows that the amount of NO sppecies with a large cross section for pphotostimulated desorpption increases drastically at higher NO coverages. Using scanning tunneling microscoppy, we have observed structural modifications of the chlorinated Si(111)-7$\times$7 surface induced by 266nm laser irradiation. At very low laser fluence of 0.7mJ/$\textrm{cm}^2$, at which thermal desorpption can be ignored, a pperiodic stripped ppattern of a single domain is imaged. This ppattern consists of flat terraces and narrow grooves of ~60 and ~10A in width, resppectively.

SIMS는 뛰어난 원소검찰감도의 깊이분해능을 가지고 있어서 깊이에 따른 미량불순물 분석에 필수적인 장비이지만, 시료와 불순물의 변화에 따라 이온화율과 깎이는 속도가 달라서 일어나는 matrix effect 때문에 표준시료없이 정량분석을 할 수 없는 문제점이 있다. 이런 SIMS의 단점을 보완하기 위한 방법으로 개발된 여러 가지 SNMS기술중 SIMS에 아무런 기계장치를 덧붙이지 않고도 정량화개선효과를 가져오는 CsX+ SNMS에 대한 연구를 진행하여, 지금까지 밝혀진 실리콘 산화막등에서의 주성분원소 조성비분석을 통해 SNMS기능을 확인하고 SIMS의 주 분석대상인 불순물농도분석에의 적용가능성을 실험해 보았다. 이를 위해 실리콘에 BF2 이온주입후 붕소분포분석시 강한 matrix effect를 나타내는 불소의 효과를 SNMS와 SIMS로 비교하였으며, 검출한계와 dynamic range도 조사하였다. 실험결과 CsX+ SNMS기술은 matrix effect 때문에 실제 분포와 다른 값으로 검출되는 불순물 시료 분석에 적용할 수 있음을 알았다.

2$\times$1018 ions/$\textrm{cm}^2$ 의 산소이온이 180 keV 로 주입된 실리콘웨이퍼를 125$0^{\circ}C$에서 6시간동안 질소분위기로 열처리하여 SIMOX SOI 구조를 제조하였다. 이온주입 후 열처리 과정에서 산소원자의 거동을 AES 와 TEM 으로 분석하였고, SRpp 법으로 시료의 전기적 특성을 조사하였다. 그 결과 고온의 열처리 후에 SOI 층 내에 산소적출물이 존재하고 있음을 관찰할 수 있었으며 이들은 SOI 층의 전기적특성에 심각한 영향을 미침을 알았다. 그리고 열처리과정에서 SOI 층 내 산소농도의 감소는 이들 석출물의 성장소멸기구에 지배됨을 알았다.